Name: 11x11 Phòng thí nghiệm trồng hạt kim cương CVD thô Đĩa kim cương phi màu công nghiệp
Brand: Shaper Diamond Technology Co., Ltd
SKU: công ty cổ phần
Price: 1,000.00 USD
Availability: InStock

Nhà Sản phẩm Kim cương CVD cơ học

11x11 Phòng thí nghiệm trồng hạt kim cương CVD thô Đĩa kim cương phi màu công nghiệp

11x11 Lab Grown Diamond Seeds Rough CVD Diamond Wafers Plate Colorless Industrial

Thông tin chi tiết sản phẩm:

Nguồn gốc:	Hồ Nam, Trung Quốc
Hàng hiệu:	Infi
Số mô hình:	công ty cổ phần

Thanh toán:

Số lượng đặt hàng tối thiểu:	10pcs
Giá bán:	To be negotiated
chi tiết đóng gói:	đóng gói trong hộp sau đó vào thùng carton
Thời gian giao hàng:	7 ngày làm việc
Điều khoản thanh toán:	T/T, Western Union, Paypal
Khả năng cung cấp:	100 chiếc/7 ngày

Tiếp xúc

Chi tiết sản phẩm

Kích thước:	11x11x0,3mm	Màu sắc:	không màu
Tên sản phẩm:	Đĩa kim cương	Độ cứng (microhardness):	80-150GPa
Mô đun Young:	1150-130OGPa	Hệ số giãn nở nhiệt:	10-.K-l
Hệ số ma sát:	0.05~0.05	Khả năng dẫn nhiệt:	1500-2000 w/ (m·K)
Làm nổi bật:	11x11 Hạt kim cương trồng trong phòng thí nghiệm , Vỏ kim cương CVD thô không màu , Bảng kim cương Cvd công nghiệp

11 × 11 Phòng thí nghiệm trồng hạt kim cương CVD thô Đĩa kim cương phi màu công nghiệp

Thông số kỹ thuật sản phẩm

Thuộc tính	Giá trị
Kích thước	11 × 11 × 0,3mm
Màu sắc	Không màu
Tên sản phẩm	CVD Diamond Plate
Độ cứng (microhardness)	80-150GPa
Young's modulus	1150~1300GPa
Tỷ lệ mở rộng nhiệt	10^-6K^-1
Tỷ lệ ma sát	0.05 ¥0.05
Khả năng dẫn nhiệt	1500-2000 W/m·K

Tổng quan sản phẩm

11 × 11 × 0.3mm Lab Grow Diamond Rough CVD Diamond Wafers của chúng tôi được sản xuất bằng công nghệ Chất hóa học (CVD).Quá trình này phân hủy khí chứa carbon trong điều kiện được kiểm soát để tạo thành các lớp kim cương tinh thể đơn chất lượng cao trên chất nền.

Các đặc điểm chính

Kim cương tinh đơn CVD cung cấp sự ổn định nhiệt đặc biệt so với kim cương tự nhiên, với các tính chất đồng vị do sự sắp xếp hạt vô trật tự của chúng.Những tấm này không chứa chất xúc tác kim loại., đảm bảo hiệu suất vượt trội trong các ứng dụng đòi hỏi.

Thông số kỹ thuật

Hàm lượng nitơ: <50ppm
Nồng độ Boron [B]: <0,05 ppm
Nồng độ nitơ: < 20 ppm
Hai mặt được đánh bóng, Ra <20 nm
Kích thước bên được đo ở bên nhỏ hơn
Độ khoan dung L + W (0, +0,3 mm)
Độ khoan dung độ dày (0, +0,1mm)

Kích thước có sẵn

3 × 3 × 0,3mm

4 × 4 × 0,3mm

5 × 5 × 0,3mm

6 × 6 × 0,3mm

7 × 7 × 0,3mm

8 × 8 × 0,3mm

9 × 9 × 0,6mm

10 × 10 × 0,3mm

11 × 11 × 0,3mm

12 × 12 × 0,3mm

13 × 13 × 0,3mm

15 × 15 × 0,3mm

Đảm bảo chất lượng

Các cạnh cắt bằng laser chính xác với định hướng < 100
{100} hướng mặt
Không có đốm đen đa tinh thể hoặc nứt dưới sự phóng to 20 lần
Cắt hoàn hảo mà không thiếu các góc
Phân phối căng thẳng đồng nhất dưới bình phân cực

Các ứng dụng được đề xuất

Lý tưởng để sử dụng làm chất nền / hạt giống cho sự phát triển CVD tinh thể đơn, công cụ cắt và nghiền, máy phân tán nhiệt và các thành phần quang học nơi yêu cầu độ cứng và dẫn nhiệt đặc biệt.

Hình ảnh sản phẩm