Name: 11x11 Lab-Gewächsene Diamantkerne Roh-CVD-Diamant-Wafer-Platte Farblos Industrie
Brand: Shaper Diamond Technology Co., Ltd
SKU: JSD
Price: 1,000.00 USD
Availability: InStock

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11x11 Lab-Gewächsene Diamantkerne Roh-CVD-Diamant-Wafer-Platte Farblos Industrie

11x11 Lab Grown Diamond Seeds Rough CVD Diamond Wafers Plate Colorless Industrial

Produktdetails:

Herkunftsort:	Hunan, China
Markenname:	Infi
Modellnummer:	JSD

Zahlung und Versand AGB:

Min Bestellmenge:	10 PCS
Preis:	To be negotiated
Verpackung Informationen:	Verpackt in einem Karton
Lieferzeit:	7 Arbeitstage
Zahlungsbedingungen:	T/T, Western Union, Paypal
Versorgungsmaterial-Fähigkeit:	100 Stück / 7 Tage

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Ausführliche Produkt-Beschreibung

Größe:	11x11x0,3 mm	Farbe:	Farblos
Produktbezeichnung:	Cvd Diamantplatte	Härte (Mikrohärte):	80 ∼ 150 GPa
Young's Modulus:	1150-130OGPa	Koeffizient der thermischen Ausdehnung:	10-K-l
Reibungsbeiwert:	0.05 bis 0.05	Wärmeleitfähigkeit:	1500-2000 W/ (m·K)
Hervorheben:	11x11 Labor-Gebaute Diamantensamen , Farblose rohen CVD-Diamantwafer , Industrielle Cvd-Diamantplatte

11×11 Lab Grown Diamond Seeds Rough CVD Diamond Wafers Plate Colorless Industrial

Produktspezifikationen

Attribut	Wert
Größe	11×11×0.3mm
Farbe	Farblos
Produktname	CVD-Diamantplatte
Härte (Mikrohärte)	80～150 GPa
Elastizitätsmodul	1150～1300 GPa
Wärmeausdehnungskoeffizient	10^-6K^-1
Reibungskoeffizient	0.05～0.05
Wärmeleitfähigkeit	1500-2000 W/(m·K)

Produktübersicht

Unsere 11×11×0.3mm Lab Grown Diamond Rough CVD Diamond Wafers werden mit der Chemical Vapor Deposition (CVD)-Technologie hergestellt. Dieses Verfahren zersetzt kohlenstoffhaltige Gase unter kontrollierten Bedingungen, um hochwertige Einkristall-Diamantschichten auf Substraten zu bilden.

Hauptmerkmale

CVD-Einkristalldiamanten bieten eine außergewöhnliche thermische Stabilität, die mit natürlichen Diamanten vergleichbar ist, mit isotropen Eigenschaften aufgrund ihrer ungeordneten Kornanordnung. Diese Platten enthalten keine Metallkatalysatoren, was eine überlegene Leistung in anspruchsvollen Anwendungen gewährleistet.

Technische Daten

Stickstoffgehalt: <50 ppm
Bor-Konzentration [B]: <0,05 ppm
Stickstoffkonzentration: <20 ppm
Zwei Seiten poliert, Ra <20 nm
Seitliche Abmessungen gemessen zur kleineren Seite
L + B Toleranz (0, +0,3 mm)
Dicken-Toleranz (0, +0,1 mm)

Verfügbare Größen

3×3×0.3mm

4×4×0.3mm

5×5×0.3mm

6×6×0.3mm

7×7×0.3mm

8×8×0.3mm

9×9×0.6mm

10×10×0.3mm

11×11×0.3mm

12×12×0.3mm

13×13×0.3mm

15×15×0.3mm

Qualitätssicherung

Präzisions-Laser-geschnittene Kanten mit <100> Ausrichtung
{100} Flächenausrichtung
Keine polykristallinen schwarzen Flecken oder Risse unter 20× Vergrößerung
Perfekter Schnitt ohne fehlende Ecken
Gleichmäßige Spannungsverteilung unter Polarisator

Vorgeschlagene Anwendungen

Ideal für den Einsatz als Substrate/Seeds für Einkristall-CVD-Wachstum, Schneid- und Schleifwerkzeuge, Wärmeableiter und optische Komponenten, bei denen außergewöhnliche Härte und Wärmeleitfähigkeit erforderlich sind.

Produktbilder