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11x11 Semi di diamanti coltivati in laboratorio Semi di diamanti grezzi CVD Wafers di diamanti Plate Colorless Industrial

11x11 Semi di diamanti coltivati in laboratorio Semi di diamanti grezzi CVD Wafers di diamanti Plate Colorless Industrial

Dettagli:
Luogo di origine: Hunan, Cina
Marca: Infi
Numero di modello: JSD
Termini di pagamento e spedizione:
Quantità di ordine minimo: 10 PCS
Prezzo: To be negotiated
Imballaggi particolari: imballato in scatola e poi in cartone
Tempi di consegna: 7 giorni lavorativi
Termini di pagamento: T/T, Western Union, Paypal
Capacità di alimentazione: 100 pezzi/7 giorni
Contatto
Descrizione di prodotto dettagliata
Dimensione: 11x11x0,3 mm Colore: Non colorato
Nome del prodotto: Cvd Piastra di diamanti Durezza (micro-durezza): 80 ∼ 150 GPa
Modulo di Young: 1150-130OGPa Coefficiente di espansione termica: 10 - K - 1
coefficiente di attrito: 0.05 ~ 0.05 Conduttività termica: 1500-2000 w/ (m·K)
Evidenziare:

11x11 Semi di diamanti coltivati in laboratorio

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Wafer di diamanti CVD grezzi incolori

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Placca di diamanti per Cvd industriali

11×11 Semi di diamante coltivati in laboratorio, grezzi, wafer di diamante CVD, piastra incolore, industriale
Specifiche del prodotto
Attributo Valore
Dimensione 11×11×0.3mm
Colore Incolore
Nome del prodotto Piastra di diamante CVD
Durezza (microdurezza) 80~150GPa
Modulo di Young 1150~1300GPa
Coefficiente di espansione termica 10-6K-1
Coefficiente di attrito 0.05~0.05
Conducibilità termica 1500-2000 W/(m·K)
Panoramica del prodotto
I nostri wafer di diamante grezzo CVD da 11×11×0.3mm coltivati in laboratorio sono prodotti utilizzando la tecnologia Chemical Vapor Deposition (CVD). Questo processo decompone i gas contenenti carbonio in condizioni controllate per formare strati di diamante monocristallino di alta qualità su substrati.
Caratteristiche principali
I diamanti monocristallini CVD offrono un'eccezionale stabilità termica paragonabile ai diamanti naturali, con proprietà isotrope dovute alla loro disposizione disordinata dei grani. Queste piastre non contengono catalizzatori metallici, garantendo prestazioni superiori in applicazioni esigenti.
Specifiche tecniche
  • Contenuto di azoto: <50ppm
  • Concentrazione di boro [B]: <0.05 ppm
  • Concentrazione di azoto: <20 ppm
  • Due lati lucidati, Ra <20 nm
  • Dimensioni laterali misurate sul lato più piccolo
  • Tolleranza L + W (0, +0.3 mm)
  • Tolleranza spessore (0, +0.1mm)
Dimensioni disponibili
3×3×0.3mm
4×4×0.3mm
5×5×0.3mm
6×6×0.3mm
7×7×0.3mm
8×8×0.3mm
9×9×0.6mm
10×10×0.3mm
11×11×0.3mm
12×12×0.3mm
13×13×0.3mm
15×15×0.3mm
Controllo qualità
  • Bordi tagliati al laser di precisione con <100> orientamento
  • Orientamento della faccia {100}
  • Nessun punto nero policristallino o crepe sotto ingrandimento 20×
  • Taglio perfetto senza angoli mancanti
  • Distribuzione uniforme dello stress sotto polarizzatore
Applicazioni suggerite
Ideale per l'uso come substrati/semi per la crescita CVD monocristallina, utensili da taglio e molatura, dissipatori di calore e componenti ottici dove sono richieste eccezionali durezza e conducibilità termica.
Immagini del prodotto

Dettagli di contatto
Shaper Diamond Technology Co., Ltd

Persona di contatto: Mrs. Alice Wang

Telefono: + 86 13574841950

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