Name: 11x11 Laboratuvarda yetiştirilen elmas Tohumları Kaba CVD Elmas Wafers Plate Renksiz Endüstriyel
Brand: Shaper Diamond Technology Co., Ltd
SKU: JSD
Price: 1,000.00 USD
Availability: InStock

Ana sayfa Ürünler Mekanik CVD Elmas

11x11 Laboratuvarda yetiştirilen elmas Tohumları Kaba CVD Elmas Wafers Plate Renksiz Endüstriyel

11x11 Lab Grown Diamond Seeds Rough CVD Diamond Wafers Plate Colorless Industrial

Ürün ayrıntıları:

Menşe yeri:	Hunan, Çin
Marka adı:	Infi
Model numarası:	JSD

Ödeme & teslimat koşulları:

Min sipariş miktarı:	10 adet
Fiyat:	To be negotiated
Ambalaj bilgileri:	Kutuya ve daha sonra kartona paketlenmiştir
Teslim süresi:	7 iş günü
Ödeme koşulları:	T/T, Western Union, Paypal
Yetenek temini:	100 adet/7 gün

İletişim

Detaylı ürün tanımı

Boyut:	11x11x0,3 mm	Renk:	Renksiz
Ürün Adı:	Cvd Elmas plaka	Sertlik (mikrosertlik):	80-150 GPa
Gencin modülü:	1150-130OGPa	Termal Genleşme Katsayısı:	10-.K-l
sürtünme katsayısı:	0.05 ~ 0.05	Isı İleticiliği:	1500-2000 w/ (m·K)
Vurgulamak:	11x11 Laboratuvarda yetiştirilen elmas tohumları , Renksiz Kaba CVD Elmas Wafers , Endüstriyel Cvd Elmas Plakası

11×11 Laboratuvarda yetiştirilen elmas Tohumları Kaba CVD Elmas Wafers Plate Renksiz Endüstriyel

Ürün Özellikleri

Atribut	Değer
Boyut	11 × 11 × 0,3 mm
Renk	Renksiz
Ürün Adı	CVD Elmas Plakası
Sertlik (mikrosertlik)	80-150 GPa
Young modülü	1150~1300 GPa
Isı genişleme katsayısı	10^-6K^-1
Sürtünme katsayısı	0.05'0.05
Isı iletkenliği	1500-2000 W/m·K

Ürün Genel Görünümü

11×11×0.3mm Lab Grow Diamond Rough CVD Diamond Wafers, Kimyasal Buhar Depozisyonu (CVD) teknolojisi kullanılarak üretilmektedir.Bu işlem, karbon içeren gazları kontrollü koşullar altında alt katmanlarda yüksek kaliteli tek kristal elmas katmanları oluşturmak için parçalayor.

Ana Özellikler

CVD tek kristal elmaslar, düzensiz taneler düzenleri nedeniyle izotropik özelliklere sahip doğal elmaslarla karşılaştırılabilir olağanüstü bir termal kararlılık sunar.Bu plakalarda metal katalizör yok., zorlu uygulamalarda üstün performans sağlar.

Teknik özellikler

Azot içeriği: <50ppm
Bor konsantrasyonu [B]: <0,05 ppm
Azot konsantrasyonu: <20 ppm
İki tarafı cilalanmış, Ra <20 nm
Yan Boyutlar Daha Küçük Tarafa Ölçülür
L + W toleransı (0, +0,3 mm)
Kalınlık toleransı (0, +0,1 mm)

Kullanılabilir Boyutlar

3×3×0,3 mm

4×4×0,3 mm

5×5×0,3 mm

6×6×0,3 mm

7×7×0,3 mm

8×8×0,3 mm

9×9×0,6 mm

10 × 10 × 0,3 mm

11 × 11 × 0,3 mm

12×12×0,3 mm

13×13×0.3 mm

15×15×0,3 mm

Kalite güvencesi

Kesme kesimi ile kesilmiş kesikler
{100} yüz yönelimi
20 kat büyütme altında polikristal siyah lekeler veya çatlaklar yok
Kusursuz kesim, eksik köşeler olmadan.
Polarizer altında tekdüze stres dağılımı

Önerilen Uygulamalar

Tek kristal CVD büyümesi, kesme ve öğütme araçları, ısı dağıtıcıları ve olağanüstü sertlik ve ısı iletkenliği gerektiren optik bileşenler için substrat/tohum olarak kullanılmak için idealdir.

Ürün Resimleri