Name: 11x11 प्रयोगशाला में उगाए गए हीरे के बीज कच्चे सीवीडी हीरे के वेफर्स प्लेट रंगहीन औद्योगिक
Brand: Shaper Diamond Technology Co., Ltd
SKU: जेएसडी
Price: 1,000.00 USD
Availability: InStock

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11x11 प्रयोगशाला में उगाए गए हीरे के बीज कच्चे सीवीडी हीरे के वेफर्स प्लेट रंगहीन औद्योगिक

11x11 Lab Grown Diamond Seeds Rough CVD Diamond Wafers Plate Colorless Industrial

उत्पाद विवरण:

उत्पत्ति के प्लेस:	हुनान, चीन
ब्रांड नाम:	Infi
मॉडल संख्या:	जेएसडी

भुगतान & नौवहन नियमों:

न्यूनतम आदेश मात्रा:	10pcs
मूल्य:	To be negotiated
पैकेजिंग विवरण:	बॉक्स में पैक किया गया और फिर कार्टन में
प्रसव के समय:	7 कार्यदिवस
भुगतान शर्तें:	टी/टी, वेस्टर्न यूनियन, पेपैल
आपूर्ति की क्षमता:	100 पीसी/7 दिन

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विस्तृत उत्पाद विवरण

आकार:	11x11x0.3 मिमी	रंग:	बेरंग
उत्पाद का नाम:	सीवीडी डायमंड प्लेट	कठोरता (सूक्ष्म कठोरता):	80~150जीपीए
यंग मापांक:	1150~130ओजीपीए	थर्मल विस्तार गुणांक:	10-.K-l
घर्षण के गुणांक:	0.05 ~ 0.05	ऊष्मा चालकता:	1500-2000 w/ (m·K)
प्रमुखता देना:	11x11 प्रयोगशाला में उगाए गए हीरे के बीज , रंगहीन कच्चे सीवीडी हीरे के वेफर्स , औद्योगिक सीवीडी हीरा प्लेट

11×11 प्रयोगशाला में उगाए गए हीरे के बीज कच्चे सीवीडी हीरे के वेफर्स प्लेट रंगहीन औद्योगिक

उत्पाद विनिर्देश

विशेषता	मूल्य
आकार	11 × 11 × 0.3 मिमी
रंग	रंगहीन
उत्पाद का नाम	सीवीडी डायमंड प्लेट
कठोरता (माइक्रोहार्डनेस)	80-150 जीपीए
यंग का मॉड्यूलस	११५०१३०० जीपीए
थर्मल विस्तार गुणांक	10^-6क^-1
घर्षण गुणांक	0.05 ₹0.05
थर्मल चालकता	1500-2000 डब्ल्यू/एमके

उत्पाद अवलोकन

हमारे 11×11×0.3 मिमी लैब ग्रोव डायमंड कच्चे सीवीडी डायमंड वेफर्स का उत्पादन रासायनिक वाष्प अवशोषण (सीवीडी) तकनीक का उपयोग करके किया जाता है।यह प्रक्रिया नियंत्रित परिस्थितियों में कार्बन युक्त गैसों को घटाने के लिए सब्सट्रेट पर उच्च गुणवत्ता वाले एकल क्रिस्टल हीरे की परतें बनाती है.

प्रमुख विशेषताएं

सीवीडी एकल क्रिस्टल हीरे प्राकृतिक हीरे के समान असाधारण थर्मल स्थिरता प्रदान करते हैं, उनके अव्यवस्थित अनाज व्यवस्था के कारण आइसोट्रोपिक गुणों के साथ।इन प्लेटों में कोई धातु उत्प्रेरक नहीं है, जो मांग वाले अनुप्रयोगों में बेहतर प्रदर्शन सुनिश्चित करता है।

तकनीकी विनिर्देश

नाइट्रोजन सामग्रीः <50ppm
बोरॉन सांद्रता [B]: <0.05 ppm
नाइट्रोजन एकाग्रताः <20 ppm
दो पक्षों को पॉलिश किया गया, Ra <20 nm
पक्षीय आयाम छोटे पक्ष पर मापा जाता है
एल + डब्ल्यू सहिष्णुता (0, +0.3 मिमी)
मोटाई सहिष्णुता (0, +0.1 मिमी)

उपलब्ध आकार

3 × 3 × 0.3 मिमी

4 × 4 × 0.3 मिमी

5 × 5 × 0.3 मिमी

6 × 6 × 0.3 मिमी

7×7×0.3 मिमी

8×8×0.3 मिमी

9 × 9 × 0.6 मिमी

10 × 10 × 0.3 मिमी

11 × 11 × 0.3 मिमी

12 × 12 × 0.3 मिमी

13 × 13 × 0.3 मिमी

15×15×0.3 मिमी

गुणवत्ता आश्वासन

प्रेसिजन लेजर-कट किनारों के साथ <100> उन्मुखीकरण
{100} चेहरे की ओर उन्मुखता
कोई पॉलीक्रिस्टलीय काले धब्बे या दरारें नहीं 20x आवर्धन के तहत
बिना कोनों के सही काट
ध्रुवीकरण के तहत एक समान तनाव वितरण

सुझावित अनुप्रयोग

एकल क्रिस्टल सीवीडी विकास, काटने और पीसने के उपकरण, गर्मी फैलाने वाले उपकरण और ऑप्टिकल घटकों के लिए सब्सट्रेट/बीजों के रूप में उपयोग के लिए आदर्श जहां असाधारण कठोरता और थर्मल चालकता की आवश्यकता होती है।

उत्पाद चित्र