Name: 11x11 การปลูกเพชรในห้องปฏิบัติการ เมล็ดเพชร CVD แดมอนด์โอฟเฟอร์แผ่นไร้สีอุตสาหกรรม
Brand: Shaper Diamond Technology Co., Ltd
SKU: เจเอสดี
Price: 1,000.00 USD
Availability: InStock

บ้าน ผลิตภัณฑ์เครื่องจักรกล CVD Diamond

11x11 การปลูกเพชรในห้องปฏิบัติการ เมล็ดเพชร CVD แดมอนด์โอฟเฟอร์แผ่นไร้สีอุตสาหกรรม

11x11 Lab Grown Diamond Seeds Rough CVD Diamond Wafers Plate Colorless Industrial

รายละเอียดสินค้า:

สถานที่กำเนิด:	มณฑลหูหนาน ประเทศจีน
ชื่อแบรนด์:	Infi
หมายเลขรุ่น:	เจเอสดี

การชำระเงิน:

จำนวนสั่งซื้อขั้นต่ำ:	10 ชิ้น
ราคา:	To be negotiated
รายละเอียดการบรรจุ:	บรรจุในกล่องแล้วใส่ลงในกล่อง
เวลาการส่งมอบ:	7 วันทำการ
เงื่อนไขการชำระเงิน:	T/T, Western Union, Paypal
สามารถในการผลิต:	100 ชิ้น/7 วัน

ติดต่อ

รายละเอียดสินค้า

ขนาด:	11x11x0.3 มิลลิเมตร	สี:	ไม่มีสี
ชื่อสินค้า:	Cvd แผ่นเพชร	ความแข็ง (ความแข็งขนาดเล็ก):	80-150GPa
โมดูลัสของ Young:	1150-130OGPa	ค่าสัมประสิทธิ์การขยายตัวทางความร้อน:	10-.K-l
ค่าสัมประสิทธิ์แรงเสียดทาน:	00.05 ~ 0.05	ความสามารถในการนําความร้อน:	1500-2000 w/ (m·K)
เน้น:	11x11 เมล็ดเพชรที่ปลูกในห้องปฏิบัติการ , วอฟเฟอร์เพชร CVD แคบไร้สี , พล็อตเพชร Cvd อุตสาหกรรม

11×11 เมล็ดเพชรที่ปลูกในห้องปฏิบัติการ เพชรดิบ CVD แผ่นเวเฟอร์ ไม่มีสี สำหรับอุตสาหกรรม

ข้อมูลจำเพาะของผลิตภัณฑ์

คุณสมบัติ	ค่า
ขนาด	11×11×0.3 มม.
สี	ไม่มีสี
ชื่อผลิตภัณฑ์	แผ่นเพชร CVD
ความแข็ง (ไมโครฮาร์ดเนส)	80～150GPa
มอดูลัสของยัง	1150～1300GPa
ค่าสัมประสิทธิ์การขยายตัวทางความร้อน	10^-6K^-1
ค่าสัมประสิทธิ์ของแรงเสียดทาน	0.05～0.05
การนำความร้อน	1500-2000 W/(m·K)

ภาพรวมผลิตภัณฑ์

แผ่นเวเฟอร์เพชรดิบ CVD ขนาด 11×11×0.3 มม. ที่ปลูกในห้องปฏิบัติการของเรา ผลิตโดยใช้เทคโนโลยี Chemical Vapor Deposition (CVD) กระบวนการนี้จะสลายก๊าซที่มีคาร์บอนภายใต้สภาวะที่ควบคุม เพื่อสร้างชั้นเพชรคริสตัลเดี่ยวคุณภาพสูงบนพื้นผิว

ลักษณะสำคัญ

เพชรคริสตัลเดี่ยว CVD มีความเสถียรทางความร้อนเป็นพิเศษเทียบเท่ากับเพชรธรรมชาติ ด้วยคุณสมบัติไอโซโทรปิกเนื่องจากการจัดเรียงเกรนที่ไม่เป็นระเบียบ แผ่นเหล่านี้ไม่มีตัวเร่งปฏิกิริยาโลหะ ทำให้มั่นใจได้ถึงประสิทธิภาพที่เหนือกว่าในการใช้งานที่ต้องการ

ข้อมูลจำเพาะทางเทคนิค

ปริมาณไนโตรเจน: <50ppm
ความเข้มข้นของโบรอน [B]: <0.05 ppm
ความเข้มข้นของไนโตรเจน: <20 ppm
ขัดสองด้าน, Ra <20 nm
ขนาดด้านข้าง วัดจากด้านที่เล็กกว่า
ความคลาดเคลื่อน L + W (0, +0.3 มม.)
ความคลาดเคลื่อนของความหนา (0, +0.1 มม.)

ขนาดที่มีจำหน่าย

3×3×0.3 มม.

4×4×0.3 มม.

5×5×0.3 มม.

6×6×0.3 มม.

7×7×0.3 มม.

8×8×0.3 มม.

9×9×0.6 มม.

10×10×0.3 มม.

11×11×0.3 มม.

12×12×0.3 มม.

13×13×0.3 มม.

15×15×0.3 มม.

การประกันคุณภาพ

ขอบตัดด้วยเลเซอร์อย่างแม่นยำพร้อม <100> การวางแนว
การวางแนวหน้า {100}
ไม่มีจุดดำหรือรอยแตกแบบโพลีคริสตัลไลน์ภายใต้กำลังขยาย 20×
การตัดที่สมบูรณ์แบบโดยไม่มีมุมที่ขาดหายไป
การกระจายความเครียดที่สม่ำเสมอภายใต้โพลาไรเซอร์

การใช้งานที่แนะนำ

เหมาะอย่างยิ่งสำหรับการใช้เป็นพื้นผิว/เมล็ดสำหรับการเติบโตแบบ CVD คริสตัลเดี่ยว เครื่องมือตัดและเจียร แผ่ความร้อน และส่วนประกอบออปติคัล ซึ่งต้องการความแข็งและความนำความร้อนเป็นพิเศษ

รูปภาพสินค้า