9x9x0.3mm CVD mecánico Diamante crudo sin cortar Diamante sintético cultivado en laboratorio Semillas

El diamante CVD (deposición química de vapor) de un solo cristal se refiere a un tipo de diamante que se produce utilizando el proceso CVD. En este proceso, una mezcla de gases que contienen carbono se descompone en condiciones controladas, lo que resulta en la formación de una capa de diamante de un solo cristal sobre un sustrato.

El diamante CVD de un solo cristal es conocido por su excepcional dureza y conductividad térmica, lo que lo hace útil para una variedad de aplicaciones industriales y científicas, como herramientas de corte y rectificado, difusores de calor y componentes ópticos.

• Dureza (microdureza): 80～150GPa
• Módulo de Young: 1150～1300GPa
• Coeficiente de fricción: 0,05~0,05
• Coeficiente de expansión térmica: 10-.K-l
• Conductividad térmica: 1500-2000 w/(m*K)

Dado que el diamante CVD no contiene ningún catalizador metálico, su estabilidad térmica es cercana a la del diamante natural. Al igual que el diamante policristalino sintetizado artificialmente a alta temperatura y alta presión, los granos de diamante CVD también están dispuestos de forma desordenada, sin planos de escisión frágiles, por lo que son isótropos.

Utilizando el método de deposición química de vapor asistida por plasma de microondas (MPACVD), el sistema de resonancia de microondas se utiliza para descomponer el gas que contiene carbono y el gas corrosivo a bajas y medianas presiones para generar plasma, y ​​se diseña la estrategia de crecimiento del modelo de cristal de diamante de un solo cristal, de modo que el cristal de diamante se puede utilizar. El crecimiento homoepitaxial se logra en las direcciones de crecimiento 100 y 110 y 111 del cristal semilla de diamante tipo IIb.