9x9x0.3mm CVD Mekanis Berlian mentah Uncut sintetis Biji Berlian Lab Tumbuh

CVD (Chemical Vapor Deposition) mengacu pada jenis berlian yang diproduksi dengan menggunakan proses CVD. Dalam proses ini,campuran gas yang mengandung karbon terurai dalam kondisi terkontrol, menghasilkan pembentukan lapisan kristal berlian tunggal pada substrat.

Berlian kristal tunggal CVD dikenal karena kekerasan dan konduktivitas termal yang luar biasa, yang membuatnya berguna untuk berbagai aplikasi industri dan ilmiah,seperti alat pemotong dan penggilingan, heat spreader, dan komponen optik.

• Kekerasan (mikrokekerasan): 80-150GPa
• Modulus Young: 1150 ∼ 1300 GPa
• Koefisien gesekan: 0,05 ~ 0.05
• Koefisien ekspansi termal: 10-.K-l
• Konduktivitas termal: 1500-2000 w/(m*K)

Karena berlian CVD tidak mengandung katalis logam, stabilitas termalnya hampir sama dengan berlian alami.Seperti suhu tinggi dan tekanan tinggi sintesis buatan berlian polikristalin, butiran berlian CVD juga diatur dalam kekacauan, tanpa bidang pembelahan rapuh, sehingga mereka isotropik.

Menggunakan metode pengendapan uap kimia yang dibantu plasma gelombang mikro (MPACVD),sistem resonansi gelombang mikro digunakan untuk memecah gas yang mengandung karbon dan gas korosif pada tekanan rendah dan menengah untuk menghasilkan plasma, dan strategi pertumbuhan dari model kristal berlian kristal kristal tunggal dirancang,sehingga kristal berlian dapat digunakan Pertumbuhan Homoepitaxial dicapai dalam arah pertumbuhan 100 dan 110 dan 111 dari jenis IIb kristal biji berlian.