 
|
| مكان المنشأ: | هونان ، الصين |
| اسم العلامة التجارية: | Infi |
| رقم الموديل: | JSD |
| الحد الأدنى لكمية: | عشرة قطع |
|---|---|
| الأسعار: | To be negotiated |
| تفاصيل التغليف: | معبأة في صندوق ثم في الكرتون |
| وقت التسليم: | 7 أيام عمل |
| شروط الدفع: | (ت) ، (ويسترن يونيون) ، (باي بال) |
| القدرة على العرض: | 100 قطعة/7 أيام |
| الحجم: | 10 × 10 × 0.3 ملم | اللون: | colorless |
|---|---|---|---|
| اسم المنتج: | سي دي دياموند | القسوة (الصلبة الدقيقة): | 80-150GPa |
| معامل يونج: | 1150～130OGPa | معامل التمدد الحراري: | 10-.K-I |
| معامل الاحتكاك: | 0.05 ~ 0.05 | التوصيل الحراري: | 1500-2000 و/ (m·K) |
| إبراز: | 10x10x0.3 ملم بذور الماس المزروعة في المختبر,بذور الماس المختبرية,الدرجة الميكانيكية للصفائح الماسية CVD,Rough Lab Grown Diamond Seeds,CVD Diamond Plate Mechanical Grade |
||
| السمة | القيمة |
|---|---|
| الحجم | 10x10x0.3mm |
| اللون | عديم اللون |
| اسم المنتج | لوح ماسي CVD |
| الصلابة (الصلابة الدقيقة) | 80～150GPa |
| معامل يونغ | 1150～1300GPa |
| معامل التمدد الحراري | 10-.K-l |
| معامل الاحتكاك | 0.05~0.05 |
| التوصيل الحراري | 1500-2000 w/ (m·K) |
10x10x0.3mm CVD بذور الماس المزروعة في المختبر ماس خشن CVD لوح ماسي حجم كبير لنمو CVD
يشير الماس البلوري المفرد CVD (الترسيب الكيميائي للبخار) إلى نوع من الماس يتم إنتاجه باستخدام عملية CVD. في هذه العملية، يتم تحلل خليط من الغازات المحتوية على الكربون في ظل ظروف خاضعة للرقابة، مما يؤدي إلى تكوين طبقة ماسية بلورية مفردة على الركيزة.
بالمقارنة مع الأشكال الأخرى للماس الاصطناعي، يتمتع الماس البلوري المفرد CVD ببنية بلورية عالية الترتيب، مما يمنحه خصائص فيزيائية وميكانيكية محسنة. وهذا يجعله مادة مرغوبة لمجموعة من التطبيقات عالية الأداء، حيث تكون صلابته وتوصيله الحراري من العوامل الهامة.
تتمتع مادة الماس بأعلى توصيل حراري بين المواد الطبيعية المعروفة حتى الآن. يشبه التوصيل الحراري للماس البلوري المفرد CVD الاصطناعي الماس الطبيعي (حتى 2200 واط/(متر كلفن)، وهو 7.5 أضعاف AIN و 4.5 أضعاف SiC. في الوقت نفسه، يتمتع الماس بخصائص الخصائص الكيميائية المستقرة والعزل العالي والثابت العازل الصغير. بناءً على هذه الخصائص الممتازة، يعتبر الماس البلوري المفرد هو الخيار الأول للجيل القادم من تطبيقات الأجهزة الإلكترونية عالية الطاقة وعالية التردد ومنخفضة الطاقة.
باستخدام طريقة الترسيب الكيميائي للبخار بمساعدة البلازما بالميكروويف (MPACVD)، يتم استخدام نظام رنين الميكروويف لتحطيم الغاز المحتوي على الكربون والغاز المسبب للتآكل عند ضغوط منخفضة ومتوسطة لتوليد البلازما، وتم تصميم استراتيجية نمو نموذج بلورة الماس البلوري المفرد، بحيث يمكن استخدام بلورة الماس النمو المتجانس يتحقق في اتجاهات النمو 100 و 110 و 111 لبلورة البذور الماسية من النوع IIb.
اتصل شخص: Mrs. Alice Wang
الهاتف :: + 86 13574841950
