एमपीसीवीडी कच्चे यांत्रिक सीवीडी हीरा प्रयोगशाला निर्मित वीवीएस हीरा प्लेट 12x12x0.3 मिमी

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एकल क्रिस्टल हीरा सीवीडी (रासायनिक वाष्प जमाव) एक प्रकार का हीरा है जो सीवीडी प्रक्रिया का उपयोग करके उत्पादित किया जाता है। इस प्रक्रिया में,कार्बन युक्त गैसों के मिश्रण को नियंत्रित परिस्थितियों में विघटित किया जाता है, जिसके परिणामस्वरूप एक सब्सट्रेट पर एकल क्रिस्टल हीरा परत का गठन होता है।

एकल क्रिस्टल हीरा सीवीडी अपनी असाधारण कठोरता और थर्मल चालकता के लिए जाना जाता है, जो इसे औद्योगिक और वैज्ञानिक अनुप्रयोगों की एक श्रृंखला के लिए उपयोगी बनाता है,जैसे कि काटने और पीसने के उपकरण, गर्मी फैलाने वाले, और ऑप्टिकल घटक।

सिंथेटिक हीरे के अन्य रूपों की तुलना में, एकल क्रिस्टल हीरे के सीवीडी में एक अत्यधिक व्यवस्थित क्रिस्टल संरचना होती है, जो इसे बेहतर भौतिक और यांत्रिक गुण देती है।यह इसे उच्च प्रदर्शन अनुप्रयोगों की एक श्रृंखला के लिए एक वांछनीय सामग्री बनाता है, जहां इसकी कठोरता और ताप प्रवाहकता महत्वपूर्ण कारक हैं।

माइक्रोवेव प्लाज्मा-सहायित रासायनिक वाष्प जमाव विधि (एमपीएसीवीडी) का उपयोग करके,माइक्रोवेव अनुनाद प्रणाली का उपयोग कार्बन युक्त गैस और संक्षारक गैस को कम और मध्यम दबाव पर प्लाज्मा उत्पन्न करने के लिए तोड़ने के लिए किया जाता है, और एकल क्रिस्टल हीरा क्रिस्टल मॉडल की विकास रणनीति तैयार की गई है,ताकि हीरे के क्रिस्टल का उपयोग किया जा सकता है Homoepitaxial विकास प्रकार IIb हीरे के बीज क्रिस्टल के 100 और 110 और 111 विकास दिशाओं में प्राप्त किया जाता है.